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三星电子与台积电3nm工艺良品率50%左右

三星电子与台积电3nm工艺良品率50%左右

时间:2025-02-01 来源:铿鸟百科网 收集整理:小编 阅读:
导读:10月9日消息,根据韩国媒体ChosunBiz的最新报道,关于三星电子和台积电的3nm工艺良品率,业内人士进行了分析,结果显示,目前两家公司的3nm工艺良品率均约在50%左右。报道指出,之前有传言称三星电子的3nm工艺良品率超过60%,并且

10月9日消息,根据韩国媒体ChosunBiz的最新报道,关于三星电子和台积电的3nm工艺良品率,业内人士进行了分析,结果显示,目前两家公司的3nm工艺良品率均约在50%左右。

报道指出,之前有传言称三星电子的3nm工艺良品率超过60%,并且已经向中国客户交付了一款芯片。然而,由于该工艺省略了逻辑芯片中的SRAM,因此难以将其视为“完整的3nm芯片”。

业界普遍认为,尽管三星率先量产了3nm全栅极技术(GAA),但其产量还不足以满足大客户的需求。这项技术相对复杂,因为栅极环绕在构成半导体的晶体管电流通道的四边,与之前的三边环绕工艺相比,难度更高。一位熟悉三星的消息人士透露,“要赢得像高通这样的大客户明年的3nm移动芯片订单,良品率至少需要提高到70%。”

  三星电子与台积电3nm工艺良品率50%左右

对于台积电来说,虽然是目前唯一拥有3nm量产记录的公司,但其产量同样低于最初的预期。一些分析师指出,在台积电的3nm工艺中,仍然使用了与上一代工艺相同的FinFET结构,可能未能有效控制过热问题。

目前,三星和台积电仍在不懈努力,以实现60%以上的良品率目标。台积电计划在明年开始量产N3E、N3P、N3X、N3AE等工艺,以重点提高良品率并降低成本。

此外,一位半导体业内人士透露,三星、台积电和英特尔都在积极准备2nm工艺,然而,与3nm相比,性能和功耗效率的提升并不明显,因此预计3nm工艺芯片的需求将持续时间更长,超出了预期。

前不久,天风国际分析师郭明錤在社交媒体上对苹果iPhone 15 Pro手机的过热问题进行了解读,并明确表示与台积电的3nm制程无关。郭明錤表示:“我的调查显示,iPhone 15 Pro系列的过热问题主要可能源于散热系统设计上的妥协,例如散热面积较小、采用钛合金影响散热效果等,而与台积电的3nm制程无关。预计苹果将通过更新系统来修复此问题,但除非牺牲处理器性能,否则改善效果可能有限。如果苹果未能妥善解决这一问题,可能会对iPhone 15 Pro系列产品的出货量产生不利影响。”

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